【招标信用】国产设备巨头中标1.1亿光刻机项目!
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基本信息
| 地区 | 上海 上海市 | 采购单位 | |
| 招标代理机构 | 项目名称 | 国产设备巨头中标1.1亿光刻机项目 | |
| 采购联系人 | *** | 采购电话 | *** |
据中国政府采购网公示，上海微电子装备（集团）股份有限公司中标zycgr22011903采购步进扫描式光刻机项目，设备数量为一台，成交金额10999.985万元。
公开资料显示，上海微电子装备(集团)股份有限公司(简称SMEE)主要致力于半导体装备、泛半导体装备、高端智能装备的开发、设计、制造、销售及技术服务，是我国极少数具有光刻机整机集成研发能力的厂商，公司设备广泛应用于集成电路前道、先进封装、FPD面板、MEMS、LED、Power Devices等制造领域。
步进扫描光刻机（Scanner）是现代投影式光刻的主流形态，通过狭缝动态扫描与步进拼接实现大面积高分辨率图形转移。其核心是在曝光视场内以高速同步扫描完成一次成像，再移动到下一视场重复过程，从而在大曝光视场与高分辨率之间取得平衡。典型参数包括：单次扫描狭缝约26 mm × 8 mm，最大曝光视场可达26 mm × 33 mm；掩模与晶圆反向同步扫描，掩模扫描速度可至约2400 mm/s，对应晶圆速度约600 mm/s，以提升产能。该方式已成为DUV与EUV前道制造的主力设备形态。
来自:天天ic
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公开资料显示，上海微电子装备(集团)股份有限公司(简称SMEE)主要致力于半导体装备、泛半导体装备、高端智能装备的开发、设计、制造、销售及技术服务，是我国极少数具有光刻机整机集成研发能力的厂商，公司设备广泛应用于集成电路前道、先进封装、FPD面板、MEMS、LED、Power Devices等制造领域。
步进扫描光刻机（Scanner）是现代投影式光刻的主流形态，通过狭缝动态扫描与步进拼接实现大面积高分辨率图形转移。其核心是在曝光视场内以高速同步扫描完成一次成像，再移动到下一视场重复过程，从而在大曝光视场与高分辨率之间取得平衡。典型参数包括：单次扫描狭缝约26 mm × 8 mm，最大曝光视场可达26 mm × 33 mm；掩模与晶圆反向同步扫描，掩模扫描速度可至约2400 mm/s，对应晶圆速度约600 mm/s，以提升产能。该方式已成为DUV与EUV前道制造的主力设备形态。
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